温州净化车间如果相对湿度控制不好，就有可能使净化室总体表现下降，而且还会带来一系列的影响。今天温州净化车间小编给大家介绍下关于净化车间相对湿度问题：

    1、细菌生长。细菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨虫)在相对湿度超过60%的环境中可以活跃地繁殖。一些菌群在相对湿度超过30%时就可以增长。而相对湿度处于40%至60%的范围之间时，可以使细菌的影响以及呼吸道感染降至最低。所以洁净室相对湿度要控制在一定范围。

    2、洁净室工作人员感到室温舒适的范围。对湿度在40%至60%的范围同样也是人类感觉舒适的适度范围。如果洁净室湿度过高会使人觉得气闷，而湿度低于30%则会让人感觉干燥，皮肤皲裂，呼吸道不适以及情感上的不快，从而影响工作。

    3、洁净室相对湿度控制不好，出现静电荷。当相对湿度超过50%时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于30%时，它们可以在绝缘体或者未接地的表面上持续存在很长一段时间。洁净室相对湿度在35%到40%之间可以作为一个令人满意的折中，半导体洁净室一般都使用额外的控制装置以限制静电荷的积累。

    4、相对湿度控制不好，容易造成洁净室里的金属腐蚀。很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增高而加快。所有暴露在洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；另一种金属，例如氧化铜，是不具有保护能力的。在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。

    5、水汽冷凝。在相对湿度较高的洁净室环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应称为凯尔文浓缩，就是当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。

    6、洁净室光刻的退化。在半导体洁净室中最迫切需要适度控制的是光刻胶的敏感性。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是最严格的。相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。此外，在较高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲基二硅氮烷(HMDS)。

    7、吸水性。相对湿度控制不好，对洁净室吸水性产出一定的影响。

    综上所述，温州净化车间需要严格控制相对湿度，才能确保净化室的作用。